一种高压研磨器具
申请号/专利号: 200310109591
本发明提供一种高压研磨器具及其使用方法,利用一种具有高压喷嘴的整理器喷出溶液对研磨垫进行调节,避免了现有工艺中为使研磨垫有较好状态,需施加一较大的作用力于钻石整理器,导致晶片表面损伤与钻石整理器的消耗,本发明还可配合现有的工艺设备设计来使用,并且使用方便。
申请日: |
2003年12月18日 |
公开日: |
2005年06月22日 |
授权公告日: |
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申请人/专利权人: |
上海宏力半导体制造有限公司 |
申请人地址: |
上海市浦东新区张江高科技园区郭守敬路818号 |
发明设计人: |
黄文忠 |
专利代理机构: |
上海光华专利事务所 |
代理人: |
余明伟 |
专利类型: |
发明专利 |
分类号: |
B24B37/04;B24B55/00;H01L21/304 |