高纯亚纳米级超细硅酸锆粉的研磨工艺
申请号/专利号: 200810195504
本发明提供一种高纯亚纳米级超细硅酸锆粉的研磨工艺,先采用湿法球磨方法,选用Φ10~Φ15mm同质硅酸锆球作磨球,将锆英砂磨至3~5μm;然后选用Φ1~3mm的同质硅酸锆球作磨球,在转速100~300rpm的搅拌磨中将上述锆英砂进行两次研磨,研磨至0.8~1.0μm;再选用Φ0.5~1mm的同质硅酸锆球作磨球,在转速500~1000rpm的搅拌磨中将上述锆英砂再进行两次研磨,研磨至0.45~0.55μm。其研磨效率较高,产品能耗低,所得高纯亚纳米级超细硅酸锆粉,在陶瓷行业使用量比普通同类粉体下降20~40%,值得在业内推广。
申请日: |
2008年10月15日 |
公开日: |
2010年06月09日 |
授权公告日: |
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申请人/专利权人: |
许兴康 |
申请人地址: |
江苏省苏州市吴中区光福镇光福工业园(南区)苏州化联高新陶瓷材料有限公司内 |
发明设计人: |
许兴康 |
专利代理机构: |
南京苏科专利代理有限责任公司 |
代理人: |
陈忠辉 |
专利类型: |
发明专利 |
分类号: |
B02C17/16;B02C17/20 |