溅射靶、溅射靶-背衬板组装体以及成膜装置

一种溅射靶，是形成有腐蚀部以及非腐蚀部的板状靶，其特征在于，其表面积超过当假定靶为平面时的表面积的１００％，并且低于１２５％。一种溅射靶，是形成有腐蚀部以及非腐蚀部的板状靶，其特征在于，在靶表面区域具有１个或多个凹部，靶的表面积超过当假定靶为平面时的表面积的１００％，并且低于１２５％。通过进行自溅射或高功率溅射，在靶的全部寿命中，通过将溅射电路中的电压变动控制为尽可能小，从而可使用容量较小、价廉的电源装置。